硝酸氧化工藝氨-空比值控制方案比較
作者/來(lái)源:羅萬(wàn)里(瀘天化股份公司電儀二) 日期: 2007-01-08 點(diǎn)擊率:1535
0 前言
瀘天化股份公司硝區(qū)450t/d稀硝擴(kuò)能技改項(xiàng)目初步設(shè)計(jì)已基本結(jié)束。儀控設(shè)計(jì)資料顯示,稀硝裝置中最重要的氧化工藝“氨-空比值”控制系統(tǒng),采用的是流量控制方案,而硝區(qū)現(xiàn)在運(yùn)行的兩套稀硝裝置中的氧化工藝“氨-空比值”控制系統(tǒng),采用的是比值控制方案。這兩種控制方案,在系統(tǒng)特性和運(yùn)行操作上存在極大差異。本文作一簡(jiǎn)要介紹,以供工藝操作人員在將來(lái)裝置投運(yùn)后參考。
1 氧化工藝過(guò)程的特點(diǎn)....